氟化鈣通常用于光譜窗口和透鏡，因?yàn)樗哂?50nm至7μm的高透射率。氟化鈣也常見于低溫冷卻的熱成像系統(tǒng)中。其低吸收和高損傷閾值使其成為準(zhǔn)分子激光光學(xué)的通常選擇。氟化鈣的低折射率使其可以在不鍍?cè)鐾改さ那闆r下使用。氟化鈣的努普硬度為158.3。

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工廠標(biāo)準(zhǔn) – 請(qǐng)聯(lián)系我們獲取加工能力或定制規(guī)格。

基片材料：UV和IR級(jí)CaF2

形狀：球面平凹，P凸，凹凸或非球面

表面圖：典型值為633nm的λ/ 4

表面質(zhì)量：每MIL-PRF-13830B 60-40

尺寸公差：+ 0.00mm， – 0.1mm

厚度公差：+/- 0.1mm

倒角：典型值為45°時(shí)為0.35mm

同心度：0.05mm

焦距公差：典型值+/- 0.5％

防反射涂層：用戶指定，每表面R<0.25％

有效口徑：超過85％的中心尺寸

損傷閾值：5J / cm2,20ns，1064nm處20Hz